Chemical Vapor Deposition
CVD står for Chemical Vapor Deposition som til norsk blir oversatt som «kjemisk avsetting fra gassfase». Det er en kjemisk metode for å avlegge tynne filmer på en overflate. Den tynne filmen kan ved blir så tynn som noen få nanometer. Ioner av det materialet som er ønsket å lage er i gassform, og etter reaksjon og/eller dekomposisjon avsettes det på et substrat i et i miljø med inert gass. Kvalitet, størrelse og tykkelse er enkelt å kontrollere ved å endre ulike faktorer under eksperimentet, som temperatur og trykk. Dette gjør at CVD kan brukes for å produsere store arealer av nanomaterialer. Derimot er ulempen med CVD at den krever høye temperaturer, inerte gasser og spesifikke substrater som begrenser bruksområdene